Halfgeleidertheorie: de werking van halfgeleiders

Vastestoffysica

Bandgap
In figuur 1 is de typische energieverdeling bij geleiders en halfgeleiders afgebeeld. Tussen de onderste energieband (de valentieband) en bovenste band (geleidings- of conductie-band) bevindt zich een 'verboden gebied', de zogenaamde bandgap. Elektronen kunnen niet een plek ter hoogte van de bandgap bezetten. Alleen door toevoeren van energie kan een elektron van de valentieband naar de geleidingsband overgaan.
Geleider

Halfgeleider
Typisch halfgeleidermateriaal is silicium. Silicium-atomen vormen een kristallijne structuur (een soort rooster); elk Si-atoom heeft 4 valentie-elektronen. Dit zijn elektronen in de buitenste schil. Een Si-atoom vormt met 4 buuratomen een verbinding; met elk van de 4 buuratomen wordt 1 valentie-elektron gedeeld. Een elektron kan van een atoom naar een buuratoom springen; een gat en positief ion achterlatend. Dit gat kan worden opgevuld door een ander elektron dat aan het bewegen geslagen is.
Dit proces heet thermische ionisatie, het aantal vrije elektronen en gaten is aan elkaar gelijk. De hoeveelheid vrije ladingsdragers is afhankelijk van de temperatuur T en van de bandgap Eg. De bandgap bij halfgeleiders is groter dan bij geleiders, er moet meer energie worden toegevoerd om een elektron in de geleidingsband te krijgen.
Dotering van halfgeleiders
De dichtheid van elektronen en gaten kan veranderd worden door dotering of 'verontreinigingen' in het (zuivere) silicium aan te brengen. Met verontreiniging wordt bedoeld: elementen met 3 valentie-elektronen (zoals boron) of elementen met 5 valentie-elektronen (zoals fosfor). Door verhitting zorgt men ervoor dat het verontreinigingsatoom in de kristallijne structuur tussen de siliciumatomen komt te zitten.

Omdat een boron-atoom op de lege plaats een valentie-elektron accepteert noemt men boron acceptor. Een verontreiniging met 1 elektron teveel (fosfor) noemt men donor; fosfor zorgt voor een extra vrij elektron.
P- en N-type Halfgeleiders
Een gebied met acceptoren heeft een overschot aan gaten, daarom noemt men dit P-type silicium. Een gebied met een overschot aan elektronen (vanwege de toegevoegde donoren), noemt men N-type silicium. Voor het aantal acceptoren schrijft men Na, het aantal donoren Nd, het aantal gaten p0, en het aantal elektronen n0.Drift en diffusie
Vrije ladingdragers (vrije elektronen en gaten) kunnen op twee manieren in beweging komen:
[OLIST]drift: als gevolg van een elektrisch veld of spanning
diffusie: als gevolg van variatie in ruimtelijke dichtheid[/OLIST]
De PN-junctie

Dit betekent dat het gebied links van de PN-grens negatief geladen zal zijn, en het gebied rechts van deze grens positief geladen.
- de lading links = -q * Na (met q = elementaire lading van 1 elektron)
- de lading rechts = q * Nd

- E = -q Na (x + xp) / ε [V/m]; voor -xp < x < 0
- E = -q Nd (x - xn) / ε [V/m]; voor 0 < x < xn
Integreren van (x = -xp) naar (x = xn) levert de spanning:
- Φc = ∫ E(x) dx = (q Na xp² + q Nd xn²) / 2ε [eV]
We kunnen deze spanning ook anders uitdrukken. De Einstein-relatie voor diffusie stelt dat:
- Dp / μp = Dn / μn = kT / q
- (Dp = diffusieconstante gaten,Dn = diffusieconstante elektronen, μp = beweeglijkheid gaten, μn = beweeglijkheid elektronen)
Aangezien er geen stroom loopt moeten drift en diffusie aan elkaar gelijk zijn:
- drift = q μp p (- d Φ / dx)
- diffusie = q Dp (dp / dx)
Φc = ∫ d Φ = - Dp / μp ∫ p(x) dx levert uiteindelijk de volgende waarde voor de spanning:
- Φc = kT ln (Na Nd / ni²) [elektronVolt]
- (ni² = aantal gaten x aantal elektronen; k = constante van Boltzmann)
Potentiaalberg
Het elektrisch veld E(x) en de spanning Φ(x) zijn afgebeeld in figuur 5. We zien dus dat er een spanning ontstaat over het depletiongebied (tussen x = -xp en x = xn). Deze spanning is bij kamertemperatuur ongeveer 0,72 eV; het vormt een zogenaamde potentiaalberg voor vrije ladingdragers: vrije elektronen of gaten kunnen uit zichzelf nooit over deze barrière heenkomen.
Wanneer de positieve pool van spanning U aan de P-zijde wordt verbonden en de min aan N-zijde, zal de potentiaalberg verlagen; is de spanning groot genoeg dan gaat er een stroom lopen. Dit heet: de junctie is forward biased. Als de spanning andersom wordt aangesloten zal de potentiaalberg hoger worden. De junctie blokkeert elke vorm van elektrische stroom. Deze toestand heeft reverse biased.
Diode

In doorlaat-richting is het verband tussen stroom en spanning als volgt:
- I = Is • (exp (U / n•Ut) - 1) [Ampere]
met:
- I = diode stroom
- Is = reverse bias verzadigingsstroom,
- U = diode spanning
- Ut = thermal spanning (=25.85 mV bij 300 K)
- n = emissie coëfficiënt
Transistor

Omdat de basisspanning positief is (en dus een gatenoverschot heeft) worden onder de basis de vrije gaten weggedrukt. Wanneer nu de collector-emitterspanning groter nul is, kan er een elektronenstroom gaan lopen van emitter naar collector. De grootte van deze stroom is recht evenredig met de basis-emitterstroom (welke wordt bepaald door de basis-emitterspanning). We kunnen dus stellen dat een veelvoud van de basis-emitterstroom door de collector-emitterovergang stroomt: dit principe wordt gebruikt voor signaalversterking.